【CPP114】訊：一.PS版(版材)的分類、結構及性能
　　

　　1. PS版材的分類：

　　——陽圖型PS版：用陽圖分色片進行曬版的PS版，其感光膜在紫外線照射下產生光分解反應。

　　——陰圖型PS版：用陰圖分色片進行曬版的PS版， 其感光膜在紫外線照射下產生光聚合反應。

　　分為版基、氧化層、感光膜層

　　2.PS版材的結構：

　　——版基：鋁金屬版基。通常有0.25mm、0.15mm兩種厚度。

　　——氧化層：即親水層，是通過陽極氧化和封孔工藝，

　　　在版基一側形成多孔、堅硬的氧化層。有較強的耐磨、耐蝕、吸水性。

　　——感光膜層：即親油層，由感光劑（氮醌化合物）、成膜性樹脂、染料、溶劑等組成。

　　3.PS版主要性能指標：

　　——表面粗糙度：0.40≤Ra ≤0.90(um)

　　——版基面氧化層質量：1.50 ~3.50(g/m² )

　　——版基面感光層質量：1.60~2.50 (g/m² )

　　——分辨率：≤10.0(um)

　　——網點再現范圍：2%~98%　網點齊全

　　——版基底色密度：≤0.03

　　——感光度： ≤300 (mj/cm² )

　　——留膜率：≥90%

　　——印版厚度：0.15~0.40mm（厚度偏差？0.01mm）

　　——印版尺寸：符合GB/T 17155-1997

　　——耐印力：未定

　　注：影響印版耐印力的主要因素

　�、貾S版感光膜附著力

　�、诜稚�片實地密度

　�、塾∷�壓力

　�、芗垙埡�雜質（砂粒）量

　�、轁櫚嬉篜h值

　　二.膠印印版制作（曬版）工藝流程
　　
　　分色片輸出→曝光→顯影→修版→后處理→印刷

　　——曝光：是把分色片與PS版藥膜面緊密接觸，用紫外線光源（如碘鎵燈）（光譜范圍約360~430毫微米）進行曝光。

　　——顯影：是把（經曝光）產生光分解反應的（非印刷區域）感光膜，在稀堿溶液中溶解，露出氧化（親水）層。

　　——修版：把經水洗后的印版，用除臟劑（由相關溶劑、增濃劑、染料、潤濕劑等組成）進行修版除臟作業。

　　——后處理：包括烘干、烤版、提墨、擦膠等。
　
　　·烤版：主要是為了提高印版的耐印力。在230℃~250℃溫度下烤版5~8分鐘。

　　·提墨：為提高版面圖文部分的反差（便于檢查）、保護圖文印刷部分的感光膜不受光的損害、增加印版的吸墨性，在版面涂以提墨劑。

　　·擦膠：為保護制作好的印版，防止氧化和灰塵污染，在版面涂擦護版膠（如阿拉伯樹膠）。

　　三. 對分色片質量的要求

　　——片基灰霧密度≤0.15

　　——實地密度≥3.50

　　——通透性：網點透明部分密度（不包括片基） ≤0.10

　　——網點邊緣寬度≤網線寬度/40(um)

　　——軟片線性化誤差≤±2%

　　——套準誤差（對角線）≤0.02%

　　——版面清潔、無劃痕、折痕等。






　

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